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工藝過(guò)程裝備

大型電子束箱式真空鍍膜設(shè)備
以您的鍍膜工藝出發(fā),理論計(jì)算和設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn)結(jié)合,合理的配置,合理的布局,超高的性價(jià)比。全自動(dòng)一鍵式操作。既能滿足科研院所多品種、小批量產(chǎn)品研制的需求,又能適用于規(guī)模化生產(chǎn)。全無(wú)油真空系統(tǒng)。
◆ 適用行業(yè):天文觀測(cè)、SiC改性及傳統(tǒng)光學(xué)鍍膜、紅外器件鍍膜等
◆ 適用膜料金屬類(lèi):金、銀、鋁、銅、鈦、鉻、鈀、銠、鉑、鎳等各類(lèi)金屬或合金
◆ 介質(zhì)類(lèi):二氧化硅、三氧化二鋁、二氧化鈦、五氧化二鉭、氧化鉿、二 氧化鋯、氟化鎂、氟化釔、硫化鋅、硒化鋅、H4、SV-7、SV-20等
◆ 晶體類(lèi):鍺、硅等膜層厚度       ◆ 金屬類(lèi):5nm-40mm
◆ 介質(zhì)類(lèi):5nm-30mm              ◆  晶體類(lèi):10nm-30mm
◆ 基底(襯底)尺寸: φ1.5mm-φ2400mm

性能指標(biāo)

主要技術(shù)指標(biāo):

◆ 內(nèi)腔直徑(mm):2800、3000、3600等;

◆ 使用整體平面工件盤(pán)時(shí):工件直徑不超過(guò)φ2400mm,邊緣厚度不超過(guò)400mm,工件及夾具總重量不超過(guò)10噸,工件轉(zhuǎn)速3-10rpm/min;

◆ 使用三行星平面工件盤(pán)時(shí):工件直徑不超過(guò)φ1100mm,邊緣厚度不超過(guò)250mm,工件及夾具總重量不超過(guò)1噸,工件轉(zhuǎn)速3-30rpm/min;

◆ 極限真空:≤8×10-5 Pa(24 小時(shí)內(nèi));

◆ 常溫狀態(tài)下,真空室排氣由大氣至壓強(qiáng)2×10-3Pa,排氣時(shí)間≤25min;

◆ 250℃烘烤狀態(tài)下,真空室排氣由大氣至壓強(qiáng)2×10-3Pa,排氣時(shí)間≤45min;

◆ 下烘烤,最高溫度300℃,控溫精度≤±1℃;

◆ 烘烤至200℃時(shí),溫度不均勻性≤±5℃(徑向5點(diǎn)測(cè)試)

◆ 漏氣率:≤1.0×10-4Pa?m3/s;

◆ 膜厚片內(nèi)均勻性:≤±2%(電子束蒸發(fā)源制備Al2O3、SiO2兩種單層薄膜,延半徑方向均分十點(diǎn)測(cè)試);

◆ 膜厚片間均勻性: ≤±2%(批次內(nèi)5片,每片取平均值)

◆ 膜厚批間重復(fù)性:≤±2% (連續(xù)3批,每批次取平均值) ;


控制程序:

◆ 19U標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜,專(zhuān)用控制臺(tái)操作;

基于微軟WPF開(kāi)發(fā)的全自動(dòng)一鍵式操作程序,保證鍍膜重復(fù)性;

◆ 采用excel文件編輯工藝參數(shù),軟件直接調(diào)用運(yùn)行即可完成整個(gè)鍍膜工藝流程,無(wú)需額外操作;

◆ 軟件自動(dòng)生成詳細(xì)的工藝過(guò)程運(yùn)行記錄和鍍膜信息記錄;

◆ 記錄文件可回溯,歷史數(shù)據(jù)曲線可查看,時(shí)間期限為1年內(nèi);

◆ 可將TFC和Macload軟件設(shè)計(jì)參與導(dǎo)入到工藝流程內(nèi);

◆ 膜層狀態(tài)界面可查看厚度、時(shí)間、速率、功率等鍍膜信息;

◆ 關(guān)鍵部件根據(jù)實(shí)際使用情況,有維護(hù)時(shí)間顯示,即節(jié)約成本,又便于維護(hù);

◆ 完備的互鎖功能,防止誤操作;

◆ 程序設(shè)有三級(jí)權(quán)限,便于管理及維護(hù)。

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